Wir entwickeln Anlagen und Prozesslösungen fürdieHalbleiterindustrie. Wir bieten Produkte fürdie Bereiche Backend-Lithografie, Fotomaskenreinigung und Wafer-Bonden sowie mikrooptische Komponenten.
Our lithography processing equipment is suitable for applications like spin coating, spray coating, baking, priming, developing, substrate cleaning, lift-off and stripping of various substrates.
Wir sind Ihr innovativer Partner für nasschemische Prozessanlagen, die zum Reinigen, Trocknen und Ätzen von Wafern und Substraten in der Halbleiterindustrie, Medizintechnik und Solarbranche dienen.
Osiris International bietet der Halbleiter- und MEMS-Industrie eine breite Palette von Resistbeschichtungs-, Nassreinigungs- und temporären Bindungssystemen für runde Wafer und quadratische Substrate.
Wir vertreiben wissenschaftliche Geräte und Messgeräte. Zu unseren Produkten gehören Hochgeschwindigkeits-Ellipsometer, Nano-Observer, Mikromanipulatoren, Anlagen zum Ionenätzen und vieles mehr...
Wir sind ein global agierender Anbieter von Produkten und Prozesslösungen fürdie Hochvolumenfertigung von Halbleitern, Leistungsbauteilen und Nanotechnologieprodukten.