Die neue 50W Strahlquelle beruht auf dem bewährten Technologiekonzept und Design der CEPHEUS Laser- Familie. Sie zeichnet sich aus durch Robustheit, Langzeitstabilität und Zuverlässigkeit.
Typisch für den neuen CEPHEUS 1050 sind die hohen Pulsenergien von 300 μJ und wichtige Betriebsmodi, wie Burst-Mode und Einzelschussoption.
Der Laser eignet sich für die Präzisions-Mikromaterialbearbeitung von fast allen Materialien und ermöglicht dank der hohen Durchschnittsleistung einen hohen Durchsatz bei größtmöglicher Präzision.
Typische Anwendungen sind:
• Displayglas-Schneiden
• Gravieren, Schneiden, Bohren
• Großflächiger Materialabtrag (Strukturierung)
• Wafer-Trennen
• Schnelles, korrosionsfreies Dunkelmarkieren von Stahl, eloxiertem Aluminium.
Der CEPHEUS 1050 ist damit ein hervorragendes Werkzeug für die prozesseffiziente Produktion in Branchen wie:
• Mikroelektronik
• Medizintechnik
• Halbleiterindustrie
• Automobilindustrie
• Werkzeugindustrie
Der CEPHEUS 1050 ist wassergekühlt und wird mit einem Wasser/Luft oder Wasser/Wasser Wärmetauscher geliefert. Gängige Schnittstellen, mechanische Kompaktheit und geringer Wartungsaufwand gewährleisten eine einfache und kosteneffiziente Integration.
Der MISTRAL kann entweder als Stand-Alone Gerät eingesetzt oder in Fertigungslinien integriert werden.
Das Laserbeschriftungssystem MISTRAL wurde er...
Die WORKSTATION XXL ist eine universelle Laserbearbeitungskabine für große Teile. Sie kann mit bis zu 6 Achsen ausgerüstet werden. Damit können Werks...
Die AQUILA-Laser sind besonders robust: sie wurden für den Betrieb unter rauen Bedingungen konzipiert. Aufgrund ihrer hohen mittleren Leistung (120 o...
Die WORKSTATION ist eine universelle Laserbearbeitungskabine für die verschiedensten Lasermarkier- und Strukturier-Anwendungen. Ausgestattet mit Nanos...
Die WORKSTATION L ist eine extrem kompakte und flexible Lasersystemlösung. Sie besticht mit ihrem großen Beschriftungsbereich von 500 x 500 x 500 mm³ ...
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