Vakuumrezipienten wahlweise aus Aluminium oder Edelstahl, Vakuumpumpen in korrosiv-gasfester Ausführung inkl. Ölnebelabscheider mit Ölrückführung, bis zu 4 Massendurchflußregler für die Gasversorgung
Angepasster Gaseinlaß für optimale Verteilung
Druckmessung je nach Anforderung mit kapazitiver Meßröhre oder Widerstandsmanometer (Pirani)
Einkopplung der HF-Leistung mittels von AURION selbst konzipierter und gebauter Impedanz-Anpassungsnetzwerke mit automatischem Tuning
Power-Split (bei mehreren Kathoden)
DC-Bias-Regelung für gleiches Bias-Potential auf mehreren Kathoden
Wahlweise halbautomatische oder PC-Steuerung inklusive Rezeptverwaltung und Datalogging
Max. 4 Gasfluss-Controller mit einem Durchfluss von bis zu 500 sccm pro Controller, Netzanschluss: 3/N/PE AC 400/230V, Kammervolumen: 30 l, Abmessunge...
AURION bietet speziell auf Ihre Anforderungen zugeschnittene Mehrkammeranlagen mit Substrattransport unter Vakuum an.
Die erhältlichen Konfiguratione...
komplette Systeme für die Behandlung von und Beschichtung auf Oberflächen mittels Plasmaprozessen
Aktivierung, Reinigung und Ätzen mit Atmosphärendru...
AURION bietet speziell auf Ihre Anforderungen zugeschnittene Mehrkammeranlagen mit Substrathandhabung unter Vakuum an.
Die erhältlichen Konfiguration...
KIVOS ist ein sehr flexibles, modulares Konzept für Plasmasysteme.
Diese Systeme sind in den verschiedensten Anwendungsbereichen wie zum Beispiel Fe...
Kompakte Systeme, minimale Stellfläche - Hohe Plasmadichten für kurze Prozesszeiten - Optimierte Homogenität durch Plasma-Array mit 2-dimensionalem Ga...
Max. 4 Gasfluss-Controller mit einem Durchfluss von bis zu 500 sccm pro Controller, Netzanschluss: 3/N/PE AC 400/230V, Kammervolumen: 30 l, Abmessunge...
AURION bietet speziell auf Ihre Anforderungen zugeschnittene Mehrkammeranlagen mit Substrattransport unter Vakuum an.
Die erhältlichen Konfiguratione...
komplette Systeme für die Behandlung von und Beschichtung auf Oberflächen mittels Plasmaprozessen
Aktivierung, Reinigung und Ätzen mit Atmosphärendru...
AURION bietet speziell auf Ihre Anforderungen zugeschnittene Mehrkammeranlagen mit Substrathandhabung unter Vakuum an.
Die erhältlichen Konfiguration...
KIVOS ist ein sehr flexibles, modulares Konzept für Plasmasysteme.
Diese Systeme sind in den verschiedensten Anwendungsbereichen wie zum Beispiel Fe...
Kompakte Systeme, minimale Stellfläche - Hohe Plasmadichten für kurze Prozesszeiten - Optimierte Homogenität durch Plasma-Array mit 2-dimensionalem Ga...